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氯化氫
氯化氫
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氯化氫

化學(xué)式:HCl

純度規(guī)格:5N

用途:清洗、刻蝕

主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)

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產(chǎn)品種類:

產(chǎn)品標(biāo)簽:


產(chǎn)品詳情

氯化氫純度可達(dá)5N5,主要應(yīng)用于大規(guī)模集成電路清洗、刻蝕工藝。

以品質(zhì)為基石,開拓全球市場

目前,派瑞特氣公司擁有單條年產(chǎn)能超過3000噸的高純?nèi)獨(dú)怏w生產(chǎn)線,擁有高純六氟化鎢規(guī)模化生產(chǎn)線,擁有三氟甲磺酸系列產(chǎn)品研發(fā)生產(chǎn)基地,建設(shè)了高純鎢制品中試生產(chǎn)線,實(shí)現(xiàn)了企業(yè)大宗制氣的技術(shù)突破,已成為國內(nèi)特氣行業(yè)產(chǎn)品系列豐富、生產(chǎn)能力大、市場覆蓋面和占有率高、持續(xù)創(chuàng)新能力強(qiáng)的企業(yè)。

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推薦產(chǎn)品

公司主要從事電子特種氣體及三氟甲磺酸系列產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,主要產(chǎn)品包括高純?nèi)⒏呒兞u、高純氯化氫、高純氟化氫、高純四氟化硅、高純氘氣、高純六氟丁二烯、高純八氟環(huán)丁烷、高純電子混合氣等電子特種氣體,以及三氟甲磺酸、三氟甲磺酸酐、雙(三氟甲磺酰)亞胺鋰等含氟新材料。


六氟化鎢

化學(xué)式:WF6

純度規(guī)格:6N

用途:沉積

主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


氯化氫

化學(xué)式:HCl

純度規(guī)格:5N

用途:清洗、刻蝕

主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


氦氮混氣、氙氫混氣、氧氦混氣、氪氖混氣、氬氙氖混氣等

純度規(guī)格:6N

用途:刻蝕、退火、光刻等

主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、顯示面板、光纖


三氟化氮

化學(xué)式:NF3

純度規(guī)格:5N

主要用途:清洗、刻蝕

主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、 顯示面板